電子行業(yè)清洗用水設(shè)備系統(tǒng)的工藝

　　EDI清洗用水設(shè)備作為制取超純水的設(shè)備,作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備,可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM.因此廣泛用于微電子工業(yè),半導(dǎo)體工業(yè),發(fā)電工業(yè),制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室.也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補(bǔ)給水,以及其它應(yīng)用超純水.

　　清洗用水設(shè)備系統(tǒng)性能特點(diǎn):

　　1. 主機(jī)部件均采用進(jìn)口產(chǎn)品,性能可靠.

　　2. 單位膜面積的透水速度快、脫鹽率高;

　　3. 機(jī)械強(qiáng)度好,壓密實(shí)作用小;

　　4. 化學(xué)穩(wěn)定性好,能耐酸堿和微生物的侵襲;

　　5. 使用壽命長,性能衰減小.

　　6. 系統(tǒng)無易損部件,無需大量維修,使用壽命長

　　7. 前置處理系統(tǒng)可保護(hù)主機(jī)高壓泵及反滲透膜不受硬物損害.低壓開關(guān)裝置保護(hù)高壓泵,不會(huì)因供水停止而損壞.

　　8. 先進(jìn)的膜保護(hù)系統(tǒng),在設(shè)備開機(jī)時(shí),該裝置自動(dòng)發(fā)出沖洗膜的命令,淡化水自動(dòng)沖洗干凈膜表面的污物,降低污染速度,處長膜使用壽命.

　　EDI作為制取超純水的設(shè)備,作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備,可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM.因此廣泛用于微電子工業(yè),半導(dǎo)體工業(yè),發(fā)電工業(yè),制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室.也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補(bǔ)給水,以及其它應(yīng)用超純水.

　　EDI清洗用水設(shè)備技術(shù)本質(zhì)及原理

　　連續(xù)電除鹽(EDI,Electro deionization或CDI,continuous electrode ionization),是利用混和離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子,同時(shí)這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下,分別透過陰陽離子交換膜而被除去的過程.這一過程離子交換樹脂是電連續(xù)再生的,因此不需要使用酸和堿對(duì)之再生.這一新技術(shù)可以替代傳統(tǒng)的離子交換裝置,生產(chǎn)出高達(dá)18M-CM的超純水.又可以比較清晰地描述如下:EDI是利用陰、陽離子膜,采用對(duì)稱堆放的形式,在陰、陽離子膜中間夾著陰、陽離子樹脂,分別在直流電壓的作用下,進(jìn)行陰、陽離子交換.而同時(shí)在電壓梯度的作用下,水會(huì)發(fā)生電解產(chǎn)生大量H+和OH-,這些H+和OH-對(duì)離子膜中間的陰、陽離子不斷地進(jìn)行了再生.由于EDI不停進(jìn)行交換——再生,使得純水度越來越高,所以,輕而易舉的產(chǎn)生了高純度的超純水.

　　電子行業(yè)清洗用水設(shè)備系統(tǒng)的工藝:

　　1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式,其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床(復(fù)床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點(diǎn)

　　2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合的方式,其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點(diǎn)

　　3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配的的方式,這是一種制取超純水的工藝,也是一種環(huán)保,經(jīng)濟(jì),發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點(diǎn)